金屬剝離機

設備簡介

用於清除晶圓上的金屬及光阻。奈米級高壓霧化噴頭將分子微小化,可使藥液快速與光阻反應,只要旋轉沖洗就可清除金屬及光阻,當光阻被溶解會變成浮粒,藉由離心力將浮離後的金屬及光阻帶離晶圓。

獨特專利噴頭可依不同需求及製程,針對目標清洗區可特別加強沖洗。

設備特點

功能配備

 

實驗結果